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生產鐵合金,碳質還原劑有不同的要求(1)

更新時間:2017-04-07    點擊次數:1618

  生產不同品種的鐵合金,對碳質還原劑有不同的要求?,F以電熱法生產硅鐵為例,說明一下對碳質還原劑的要求:

  1)化學成分:在碳質還原劑化學成分中,主要應該考慮的指標是固定碳、灰分、揮發分和水分。

    固定碳要高,碳質還原劑中真正起還原劑作用的是固定碳。固定碳越高,還原同樣數量的硅石所需消耗的還原劑就越少。

    碳質還原劑消耗量越少,由還原劑帶人爐內的雜質也就越少。因此,希望碳質還原劑的固定碳要高。一般要求冶金焦的固定碳大于82%。對于一些物理性能優良的碳質還原劑來說,固定碳允許略低些;灰分要低,碳質還原劑的灰分主要由A1203、CaO、si02等難熔氧化物所組成,其中A1203占相當大的比例。碳質還原劑灰分高,易使爐內料面渣化燒結,影響料面透氣性。

    碳質還原劑中的灰分,還是電爐渣量增加、爐渣變黏的重要原因。爐內渣量增加,爐渣變黏,難以排出,將使爐況惡化,電能和原料消耗增加。同時硅鐵中有相當一部分鋁和磷,來源于灰分中的A1203P205,因此,碳質還原劑灰分高低會嚴重影響硅鐵質量和技術經濟指標,因此,要求碳質還原劑灰分越低越好,一般要求焦炭中灰分含量小于14%,P2()5含量小于004%;

    揮發分不予限制,碳質還原劑中碳元素除以固定碳狀態存在外,尚有部分碳以碳氫化合物(揮發分)的形式存在。揮發分高的碳質還原劑,一般來說機械強度低,同時在加熱過程中揮發分易于揮發外逸,從保證碳質還原劑有高的固定碳和一定機械強度這一角度考慮,應要求碳質還原劑的揮發分低些。但考慮到揮發分高的還原劑,其比電阻通常都高,而這一點對鐵合金冶煉又是十分重要的、有利的,因此,對碳質還原劑的揮發分一般都不予限制;

    水分要低,碳質還原劑的水分取決于還原劑的種類、結構、運輸條件和貯藏條件。碳質還原劑中水分含量波動,是造成爐況波動和惡化的重要原因。為此,要求碳質還原劑中的水分含量要穩定,且水分含量小于6%為宜。

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